电镀硬铬工艺的主要特点

从常用的铬酸电解液中电镀铬，其工艺特点如下：

1、镀铬电解液的主要成分不是金属铬盐，而是铬酸。

2、镀铬电解液中必须加入少量具有催化作用的阴离子，如硫酸根、氟硅酸根离子等，才能使电镀过程正常进行。

3、电解液的分散能力很低，不易得到均匀的镀层。要想等到厚度均匀的镀层，必须采用适当的夹具、象形阳极、辅助阴极或绝缘屏蔽等措施。

4、镀铬使用的电流密度很高，电流密度常在20A/dm2以上；镀铬槽电压较高，通常6～12V。

5、镀铬电解液的电流效率较低，，普通镀铬电解液的电流效率在20%左右。

6、阳极采用铅、铅－锑合金或铅－锡合金等做不溶性阳极，不能用金属铬作阳极。

7、工艺参数对镀铬层性质有影响，采用不同的电流密度和温度，可得到不同性质的镀铬层。

镀铬过程还有三个特殊现象：阴极电流效率随铬酸浓度的升高而下降，降温度升高而下降，随阴极电流密度的升高而升高。

电镀硬铬在进行操作时其光洁度需要达到其镜面要求，比人工抛光光洁度高达一倍以上。表面硬度增加，耐磨性好，不易损伤模具，延长模具使用寿命抗酸性强，能抵抗含酸性物质PVC材料腐蚀，模具不生锈，不腐蚀。

电镀硬铬的自滑性好，易脱模，提高生产效率，减少次品的产生，冲花，拖花是透明、黑色高光、镜面模具的生产难点。经常短时间内停机重新抛光模具，严重影响生产，浪费不必要开支。

电镀硬铬的表面处理需求还有不同的作用，在进行电镀的时候，其镀层金属或者

他不溶性材料做阳极，待镀的工件做阴极，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液。

1.镀铜：打底用，增进电镀层附着能力，及抗蚀能力。(铜容易氧化，氧化后，铜绿不再导电，所以镀铜产品要做铜保护)

2.镀镍：打底用或做外观，增进抗蚀能力及耐磨能力，(其中化学镍为现代工艺中耐磨能力超过镀铬)。(注意，许多电子产品，比如DIN头，N头，已经不再使用镍打底，主要是由于镍有磁性，会影响到电性能里面的无源互调)

3.镀金：改善导电接触阻抗，增进信号传输。(金稳定，也贵。)

4.镀钯镍：改善导电接触阻抗，增进信号传输，耐磨性高于金。

5.镀锡铅：增进焊接能力，快被其他替物取代(因含铅现大部分改为镀亮锡及雾锡)。

6.镀银：改善导电接触阻抗，增进信号传输。(银性能，容易氧化，氧化后也导电)。

电镀铬，其的前处理与后处理，都是很重要和关键的，也是必不可少的。因此，基于此，也就是基于它的重要性，下面小编就来具体讲讲，以使得大家通过学习来清楚明白，从而就可以掌握其更多的知识内容了，这样的话，我们就可以来不断进步和发展了。

电镀铬的前处理，其具体的内容和工作，其主要是有：

在钢铁零件上电镀黑铬的话，那么一般是将镀铜或镀镍层作为底镀层。而产品比较好的话，则是以铜、镍、乳白铬及黑铬的组合镀层，作为防护装置的镀层。此外，对于铜合金零件，是要经过除油酸洗等处理的。

电镀铬的后处理，其主要是有：

处理一：浸热油封闭，提高其防护装饰性能。

处理二：在其表面喷涂有机透明涂料，提高其防护装饰性能。